×

Productos

    Abrir menu
    Empresa
    2 Feb '26

    Grupo Aismar retoma en Sevilla su formación técnica avanzada en preparación de soportes y aplicación de Poliureas

    La jornada especializada se celebrará los días 25 y 26 de febrero en Alcalá de Guadaíra e incluirá teoría, práctica y la posibilidad de obtener el sello de Instalador Homologado IH en poliureas de AISLA

    Grupo Aismar confirma las nuevas fechas de su Formación Técnica Avanzada en Preparación de Soportes y Aplicación de Poliureas, que se celebrará en Sevilla los días 25 y 26 de febrero.

    Tras el aplazamiento de la convocatoria anterior, Grupo Aismar retoma esta formación especializada dirigida a profesionales del sector, con un enfoque técnico y práctico orientado a la correcta ejecución en obra.

    ¿Qué incluye la formación?

    • Preparación de soportes (teoría y práctica).
    • Aplicación de poliureas en frío y en caliente.
    • Demostraciones in situ con equipos profesionales.
    • Análisis de patologías habituales y buenas prácticas.

    Además, los asistentes podrán optar al sello de Instalador Homologado IH en poliureas de AISLA, un distintivo que acredita la capacitación técnica y el cumplimiento de los estándares de calidad.

    Información clave:

    Fechas: 25 y 26 de febrero
    Lugar: Alcalá de Guadaíra (Sevilla)

    Inscripciones abiertas

    Las inscripciones ya están abiertas y las plazas son limitadas, por lo que Grupo Aismar recomienda formalizar la inscripción lo antes posible para garantizar la asistencia.

    VIDEOS

    ×
    Filtros
    Visualizar en modo Cuadrícula Visualizar en modo Listado
    anterior
    página de
    siguiente
    Las cookies nos permiten ofrecer nuestros servicios de forma más rápida y personalizada. Al acceder y continuar navegando en esta web acepta el uso de cookies. Para más información, lea nuestra Política de cookies
    Aceptar
    X

    Suscríbete!

    56.000 usuarios

    ya reciben toda la actualidad de la
    Arquitectura, Ingeniería y Construcción

    SUSCRÍBETE